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2021-07-24

用以制作 掩模版 的掩膜基板必须内部和两表面都无缺陷。必须于光刻胶的曝光波长下有高的光学透射率。用来制作掩模版的常见材质有石英玻璃,苏打玻璃等...

2021-07-24

所有的DUV光刻机,用的光源都是193nm波长的ArF excimer laser,之前的一代DUV,用的光源是248nm波长的KrF excimer laser。另外,EUV光刻机的光源,是...
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